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Litografia de feixe de íons focada para etch nano-arquiteturas em microeletrodos
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1Department of Electrical Engineering and Computer Science,University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine,University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering,University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization,University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.
Chapitres
- 00:04Titre
- 00:51Aligning the Focus Ion Beam (FIB) to the Silicon Probes
- 09:46Writing an Automated Process for Etching
- 11:28Results: FIB Etched Nano-architecture on the Surfaces of Intracortical Probes and Microelectrodes Affects Neuron Density and Electrophysiology
- 13:08Conclusion
Mostramos que a gravura da nanoarquitetura em dispositivos de microeletrodo intracortical pode reduzir a resposta inflamatória e tem o potencial de melhorar as gravações eletrofisiológicas. Os métodos descritos aqui descrevem uma abordagem para gravar nano-arquiteturas na superfície de microeletrodos intracortical de silício de haste única não funcionais e funcionais.
