Polimerici Microneedle Array Fabrication per Fotolitografia
Summary
Here, we present a protocol describing a mold-free fabrication process of the polymeric microneedles by photolithography.
Abstract
Questo manoscritto descrive la fabbricazione di microago polimerico (MN) array per fotolitografia. Si tratta di un semplice processo senza stampo utilizzando una fotomaschera costituito da incorporati microlenti. Embedded microlenti sono stati trovati per influenzare MN geometria (nitidezza). Array MN Robusti con diametri compresi tra 41,5 punta micron ± 8.4 micron e 71,6 micron ± 13,7 micron, con due diverse lunghezze (1336 micron ± 193 micron e 957 micron ± 171 micron) sono stati fabbricati. Questi array MN possono fornire potenziali applicazioni nella fornitura di agenti terapeutici a basso molecolare e macromolecolare attraverso la pelle.
Introduction
Somministrazione di farmaci transdermica offre un approccio alternativo attraente per la somministrazione del farmaco, soprattutto per le biomolecole, che sono gestiti quasi esclusivamente da iniezioni ipodermiche. Tuttavia, la pelle, in particolare lo strato superiore (strato corneo), è una formidabile barriera impedendo molecole esogene di entrare nel corpo umano. Di recente, i dispositivi MN sono emersi come consentire strumenti per fornire farmaci attraverso la pelle. I dispositivi MN creano pori temporanei all'interno dello strato corneo per consentire il passaggio di molecole di farmaco per ottenere l'attività fisiologica desiderata con migliorata compliance del paziente e convenienza 1-3.
Vari metodi di fabbricazione sono stati adottati per fabbricare MNs polimerici 4. Tuttavia, di solito coinvolgono processi step complicati e più che richiedono tempi lunghi e / o alte temperature per fabbricare array MNS. 4 Per semplificare il processo di fabbricazione, un unico processo senza muffa passo conun photomask stato sviluppato recentemente 5,6. Tuttavia, con questo metodo, fabbricato MNs avevano punte smussate aghi, come era alcun meccanismo in atto per modificare il percorso ultravioletta (UV) coinvolti nella fotolitografia.
In questo studio, microlenti incorporati nella fotomaschera sono stati proposti per definire la geometria delle MNs. Il protocollo per fabbricare fotomaschere costituiti da microlenti integrate e successivamente Mn fabbricazione con punte affilate utilizzando fotomaschera sono segnalati.
Protocol
Representative Results
Discussion
Il protocollo descritto sopra per la fabbricazione della matrice MNs è stata presentata per fabbricare la matrice MNs di ~ 1 cm 2. Gli array possono essere scalati da creare una grande cavità dimensioni e utilizzando un fotomaschere grande. La maggiore dimensione della cavità può essere creata aumentando la larghezza tra i distanziatori su entrambi i lati. Anche se ogni passo per fabbricare gli array MN nel protocollo era importante, i passi più importanti sono stati: il posizionamento fotomaschera, il r…
Divulgazioni
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
This study was supported by a Singapore National Research Foundation (NRF) Grant NRF2012NRF-POC001-043.
Materials
| Poly(ethylene glycol) diacrylate (PEGDA Mn=258) | SIGMA | 475629-500ML | |
| 2-hydroxy-2-methyl-propiophenone (HMP) | SIGMA | 405655-50ML | |
| Bovine collagen type 1, FITC conjugate | SIGMA | C4361 | |
| UV curing station | EXFO Photonic Solutions Inc., Canada | OmniCure S200-XL | |
| Collimating Adaptor | EXFO Photonic Solutions Inc., Canada | EXFO 810-00042 | |
| 24-well plate | Thermo Fisher Scientific, USA | ||
| Nikon SMZ 1500 stereomicroscope | Nikon, Japan | ||
| Dillon GL-500 digital force gauge | Dillon, USA | ||
| A-1R confocal microscope | Nikon, Japan | ||
Riferimenti
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