Rivista
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はSiO:フォトリソグラフィによって画定されたパリレン-C上の細胞のパターニング<sub> 2</sub>基板
JoVE Journal
Bioingegneria
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JoVE Journal Bioingegneria
Cell Patterning on Photolithographically Defined Parylene-C: SiO2 Substrates
DOI:

07:19 min

March 07, 2014

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Capitoli

  • 00:05Titolo
  • 01:17Fabrication of Parylene Patterns on SiO2
  • 03:31Chip Cleaning and Activation
  • 04:26Plating Cell Line On-chip
  • 05:12Results: Cell Patterning on Photolithographically-defined Parylene-C
  • 06:49Conclusion

Summary

Traduzione automatica

このプロトコルは、SiO 2のセルパターニングのための微細加工と互換性のある方法を記載している。事前に定義されたパリレン-Cの設計は、フォトリソグラフィによってSiO 2のウェハ上に印刷されています。血清(または他の活性化溶液)とのインキュベーション後の細胞を特異的に接着し(との適合性に応じて成長する)はSiO 2領域によって撃退されながら、基礎となるパリレン-C、。

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