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Grande area scansione sonda nanolitografia nei paraggi allineamento automatico e sua applicazione alla fabbricazione di substrato per gli studi della coltura delle cellule
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JoVE Journal Bioingegneria
Large-area Scanning Probe Nanolithography Facilitated by Automated Alignment and Its Application to Substrate Fabrication for Cell Culture Studies
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Grande area scansione sonda nanolitografia nei paraggi allineamento automatico e sua applicazione alla fabbricazione di substrato per gli studi della coltura delle cellule

DOI:
10.3791/56967-v

•

09:45 min

•

June 12, 2018

•

, , , , , ,
1Manchester Institute of Biotechnology & School of Chemistry,University of Manchester, 2School of Engineering,University of Liverpool, 3School of Electrical and Electronic Engineering,University of Manchester, 4School of Science and Technology,Nottingham Trent University

Capitoli

  • 00:04Titolo
  • 00:47Polymer Pen Lithography (PPL) Array Fabrication and Substrate Mounting
  • 04:29Automatic Pen Array Alignment
  • 06:35Polymer Pen Lithography
  • 08:20Results: Substrate Patterning by PPL
  • 09:08Conclusion

Summary

Traduzione automatica

Traduzione automatica

Qui presentiamo un protocollo per wide area scansione sonda nanolitografia attivata per l'allineamento iterativo di sonda matrici, come pure l'utilizzo di modelli litografici per studi di interazione della cellula-superficie.

Tags

Keywords: Large-area Scanning Probe NanolithographyAutomated AlignmentSubstrate FabricationCell Culture StudiesPDMS PrepolymerSilicon MasterPPL ArrayOxygen Plasma TreatmentAFM Lithography

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