Crescimento de nanoformas dendríticos de ouro em substratos de silício revestidos de nitreto de titânio
Summary
Este estudo apresenta um procedimento viável para sintetizar nanoformas dendríticos dourados em substratos de nitreto de titânio/silício. A espessura de nanoforests dendríticos do ouro aumenta linearmente dentro de 15 minutos de uma reação da síntese.
Abstract
Neste estudo, um sistema de sputtering do magnetron do impulso de alta potência é usado para revestir uma película Titanium Lisa e firme do nitreto (estanho) em wafers do silicone (si), e uma reação galvânica fluorada-assistida da recolocação (fagrr) é empregada para a deposição rápida e fácil do ouro nanoforests dendríticos (au DNFs) nos substratos TiN/si. Imagens de microscopia eletrônica de varredura (SEM) e padrões de espectroscopia de raios X de energia dispersiva de amostras de TiN/si e au DNFs/TiN/si validam que o processo de síntese é controlado com precisão. as condições de reação neste estudo, a espessura do au DNFs aumenta linearmente para 5,10 ± 0,20 μm dentro de 15 min da reação. Portanto, o procedimento de síntese empregado é uma abordagem simples e rápida para a preparação de compósitos au DNFs/TiN/si.
Introduction
As nanopartículas de ouro têm propriedades ópticas características e ressonâncias de Plasmon de superfície localizadas (lsprs), dependendo do tamanho e da forma das nanopartículas1,2,3,4. Além disso, as nanopartículas de ouro podem aumentar significativamente as reações fotocatalíticas plasmonicas5. As nanoformas dendríticas empilhadas usando nanopartículas de ouro receberam considerável atenção por causa de suas áreas de superfície específicas notáveis e realce robusto de lspr6,7,8,9 ,10,11,12,13.
O estanho é um material cerâmico extremamente duro e tem a estabilidade térmica, química, e mecânica notável. A lata tem propriedades óticas distintivas e pode ser usada para aplicações plasmônicas com luz visível-à-próxima-infravermelha14,15. A pesquisa demonstrou que a TiN pode produzir melhorias no campo eletromagnético, semelhantes às nanoestruturas de au16. A deposição de cobre17 ou prata18,19,20 em substratos de estanho para aplicações foi demonstrada. No entanto, poucos estudos foram realizados em materiais compósitos au/TiN para aplicações. Shiao et al. demonstraram, recentemente, potenciais aplicações de compósitos au DNFs/TiN para células fotoeletroquímicas21 e degradação química22.
Au pode ser sintetizado em um substrato TiN usando um FAGRR23. A condição de deposição de au DNFs em TiN é crucial no desempenho das aplicações. Este estudo examina o crescimento de au DNFs em um substrato TiN-coated si.
Protocol
Representative Results
Discussion
Neste estudo, au DNFs com vários tamanhos de ramo foram decorados na superfície de TiN/si usando FAGRR. A deposição do au DNFs poderia ser identificada diretamente por uma mudança significativa na cor. A espessura do au DNFs em TiN/si aumentou para 5,10 ± 0,20 μm dentro de 15 min, e esse aumento na espessura pode ser expresso usando a seguinte equação linear: y = 0,296t + 0,649, onde o tempo variou de 1 a 15 min.
No FAGRR, a deposição de metal é afetada pela compo…
Disclosures
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
Este trabalho foi apoiado pelo Ministério da ciência e tecnologia, Taiwan, os números de contrato mais 105-2221-E-492-003-MY2 e mais 107-2622-E-239-002-a.
Materials
| Acetone | Dinhaw Enterprise Co. Ltd.,Taipei, Taiwan | ||
| Isopropanol | Echo Chemical Co. Ltd., Miaoli, Taiwan | TG-078-000000-75NL | |
| Buffered Oxide Etch | Uni-onward Corp., Hsinchu, Taiwan | UR-BOE-1EA | |
| Chloroauric Acid | Alfa Aesar., Heysham, United Kingdom | 36400.03 | |
| N-Type Silicon Wafer | Summit-Tech Company, Hsinchu, Taiwan | ||
| High-Power Impulse Magnetron Sputtering System (HiPIMS) | Melec GmbH, Germany | SPIK2000A | |
| Scanning Electron Microscope (SEM) | JEOL, Japan | JSM-7800F | |
| Ion Sputter Coater | Hitachi, Japan | E-1030 | |
| X-Ray Diffractometer (XRD) | PANalytical, The Netherlands | X'Pert PRO MRD |
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