Summary

Demonstração de Metahologramas visíveis all-dielectric all-dielectric de spin-multiplexed e de direção

Published: September 25, 2020
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Summary

Apresentamos um protocolo para fabricação de metahologramas visíveis de spin e direção multiplexada e, em seguida, realizamos um experimento óptico para verificar sua função. Esses metahologramas podem visualizar facilmente informações codificadas, para que possam ser usadas para exibição volutiva projetiva e criptografia de informações.

Abstract

A técnica óptica de holografia realizada por metasuperfícies surgiu como uma nova abordagem para exibição volutiva projetiva e exibição de criptografia de informações na forma de dispositivos ópticos ultrathin e quase planos. Comparado à técnica holográfica convencional com moduladores de luz espacial, o metaholograma tem inúmeras vantagens como miniaturização da configuração óptica, maior resolução de imagem e maior campo de visibilidade para imagens holográficas. Aqui, é relatado um protocolo para a fabricação e caracterização óptica de metahologramas ópticos sensíveis ao giro e à direção da luz incidente. As metasuperfícies são compostas de silício amorfo hidrogenado (a-Si:H), que possui grande índice de refração e pequeno coeficiente de extinção em toda a faixa visível, resultando em alta transmissão e eficiência de difração. O dispositivo produz diferentes imagens holográficas quando o giro ou direção da luz incidente são comutadas. Portanto, eles podem codificar vários tipos de informações visuais simultaneamente. O protocolo de fabricação consiste em deposição de filme, escrita de feixe de elétrons e gravação subsequente. O dispositivo fabricado pode ser caracterizado usando uma configuração óptica personalizada que consiste em um laser, um polarizador linear, uma placa de onda de quarto, uma lente e um dispositivo acoplado por carga (CCD).

Introduction

Metasuperfícies ópticas compostas por nanoestruturas de comprimento de onda sub-ondas permitiram muitos fenômenos ópticos interessantes, incluindo camuflagem óptica1,refração negativa2,absorção perfeita de luz3,filtragem de cores4,projeção de imagem holográfica5e manipulação de feixe6,,7,,8. Metasuperfícies ópticas que tenham dispersores apropriadamente projetados podem modular o espectro, a frente de onda e a polarização da luz. As metásperas ópticas primitivas foram fabricadas principalmente usando metais nobres (por exemplo, Au, Ag) devido à sua alta reflexividade e facilidade de nanofabaça, mas eles têm altas perdas ohmic, de modo que as metasuperfísulas têm baixa eficiência em comprimentos de onda visíveis curtos.

O desenvolvimento de técnicas de nanofabricação para materiais dielétricos que têm baixas perdas em luz visível (por exemplo, TiO29, GaN10e a-Si:H11) possibilitou a realização de dispositivos ópticos planos altamente eficientes com metasuperfícies ópticas. Esses dispositivos possuem aplicações em óptica e engenharia. Uma aplicação intrigante é a holografia óptica para exibição volutiva projetiva e criptografia de informações. Comparado aos hologramas convencionais que usam moduladores de luz espacial, o metaholograma tem inúmeras vantagens, como miniaturização da configuração óptica, maior resolução de imagens holográficas e maior campo de visibilidade.

Recentemente, a codificação de múltiplas informações holográficas em um dispositivo metaholograma de camada única foi alcançada. Exemplos incluem metahologramas que são multiplexados no giro12,,13, momento angular orbital14,ângulo de luz incidente15e direção16. Esses esforços superaram a deficiência crítica dos metahologramas, que é a falta de liberdade de design em um único dispositivo. A maioria dos metahologramas convencionais só poderia produzir imagens holográficas codificadas únicas, mas o dispositivo multiplexado pode codificar várias imagens holográficas em tempo real. Assim, o metaholograma multiplexado é uma plataforma de solução crucial para a exibição de vídeo holográfica real ou hologramas anti-contagem multifuncionais.

Relatados aqui estão protocolos para fabricar metahologramas visíveis totalmente dielétricos de spin e direção multiplexados, em seguida, para caracterizá-los opticamente13,16. Para codificar múltiplas informações visuais em um único dispositivo metasurface, são projetados metahologramas que mostram duas imagens holográficas diferentes quando o giro ou direção da luz incidente são alteradas. Para fabricar imagens holográficas altamente eficientes de uma maneira comparável com a tecnologia CMOS, a-Si:H é usado para as metásperas e ressonâncias magnéticas duplas e ressonâncias antiferrommagnéticas induzidas dentro delas são exploradas. O protocolo de fabricação consiste em deposição de filme, escrita de feixe de elétrons e gravura. O dispositivo fabricado é caracterizado por uma configuração óptica personalizada composta por um laser, um polarizador linear, uma placa de onda de quarto, uma lente e um dispositivo acoplado por carga (CCD).

Protocol

1. Fabricação de dispositivos NOTA: A Figura 1 mostra o processo de fabricação de metasuperfícies a-Si:H17. Prepare uma peça de wafer de sílica fundida (tamanho = 2 cm x 2 cm, espessura = 500 μm) como substrato. Enxágüe o substrato com acetona e álcool isopropílico (IPA) e, em seguida, sopre gás nitrogênio sobre o substrato para secá-lo. Deposite uma película a-Si:H de 380 nm de espessura no substrato usa…

Representative Results

As metasuperfícies a-Si:H permitem alta eficiência de polarização cruzada e podem ser fabricadas usando um método (Figura 1) compatível com CMOS; essa característica pode permitir a fabricação escalável e a comercialização em um futuro próximo. A imagem SEM mostra as metasuperfícies fabricadas a-Si:H(Figura 2). Além disso, a-Si:H tem um índice de refração maior que o TiO2 e o GaN, por isso, mesmo com nanoestrutura de proporção baix…

Discussion

As metasuperfícies a-Si:H foram fabricadas em três passos principais: deposição de filme fino a-Si:H usando PECVD, EBL preciso e gravura seca. Entre essas etapas, o processo de escrita da EBL é o mais importante. Primeiro, a densidade padrão em metasuperfícies é bastante alta, de modo que o processo requer controle preciso sobre a dose de elétrons (energia) e parâmetros de varredura, como número de pontos por unidade área. A condição de desenvolvimento também deve ser escolhida cuidadosamente. A densidade …

Disclosures

The authors have nothing to disclose.

Acknowledgements

Este trabalho foi apoiado financeiramente pelas bolsas da Fundação Nacional de Pesquisa (NRF-2019R1A2C3003129, CAMM-2019M3A6B3030637, NRF-2019R1A5A8080290) financiadas pelo Ministério da Ciência e ICT do governo coreano. I.K. reconhece a bolsa de doutorado global da NRF (NRF-2016H1A2A1906519) financiada pelo Ministério da Educação do governo coreano.

Materials

Aceton J.T. Baker 925402
Beam splitter Thorlabs CCM1-BS013/M
Chromium etchant KMG Cr-7
Chromium evaporation source Kurt J. Lesker EVMCR35D
Clamp Thorlabs CP175
Conducting polymer Showa denko E-spacer
Diode laser Thorlabs CPS635
E-beam evaporation system Korea Vacuum Tech KVE-E4000
E-beam resist Microchem 495 PMMA A2
Electron beam lithography Elionix ELS-7800
Half-wave plate Thorlabs AHWP05M-600
Inductively-coupled plasma reactive ion etching DMS
Iris Thorlabs SM1D12
Isopropyl alcohol J.T. Baker 909502
Kinematic mirror mount Thorlabs KM100/M
Lens Thorlabs LB1630
Lens Mount Thorlabs LMR2/M
Linear polarizer Thorlabs GTH5-A
Mirror Thorlabs PF10-03-G01
Neutral density filter Thorlabs NDC-50C-4
Plasma enhanced chemical vapor deposition BMR Technology HiDep-SC
Post Thorlabs TR75/M
Post holder Thorlabs PH75E/M
Quarter-wave plate Thorlabs AQWP10M-580
Resist developer Microchem MIBK:IPA=1:3
Rotational mount Thorlabs RSP1/M
Scanning electron microscopy Hitachi Regulus8100
XY translation mount Thorlabs XYF1/M
1-inch adapter Thorlabs AD11F
1-inch lens mount Thorlabs CP02/M

References

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Cite This Article
Kim, I., Lee, D., Rho, J. Demonstration of Spin-Multiplexed and Direction-Multiplexed All-Dielectric Visible Metaholograms. J. Vis. Exp. (163), e61334, doi:10.3791/61334 (2020).

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