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Micropunching lithographie pour la génération de micro-et submicronique des motifs sur des substrats polymères
 
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Micropunching lithographie pour la génération de micro-et submicronique des motifs sur des substrats polymères

Article DOI: 10.3791/3725-v 09:24 min July 2nd, 2012
July 2nd, 2012

챕터

요약

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Une approche lithographie micropunching est développé pour générer des micro-et submicroniques-modèles sur le dessus, flancs et surfaces inférieures de substrats polymères. Il surmonte les obstacles de la structuration des polymères conducteurs et générer des modèles de paroi latérale. Cette méthode permet la fabrication rapide des fonctionnalités multiples et est libre de la chimie agressive.

Tags

Génie mécanique Numéro 65 Physique la lithographie micropunching polymères conducteurs les nanofils les modèles les parois latérales Microlines
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