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Selective Area Modification de la Silicon mouillabilité de surface par irradiation laser pulsé UV en milieu liquide
 
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Selective Area Modification de la Silicon mouillabilité de surface par irradiation laser pulsé UV en milieu liquide

Article DOI: 10.3791/52720-v • 08:48 min • November 9th, 2015
November 9th, 2015 •
1, 1, 1
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering, Université de Sherbrooke

챕터

요약
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Nous rapportons un processus d'une altération in situ de HF traitée Si surface (001) dans un état ​​hydrophile ou hydrophobe en irradiant les échantillons dans des chambres microfluidiques remplis de H 2 O 2 / H 2 O solution (0,01% -0,5%) ou des solutions de méthanol en utilisant pulsé laser UV d'une faible fluence rapport d'impulsions.

Tags

Ingénierie Numéro 105 Silicon mouillabilité de surface l'interaction laser-surface le traitement de zone désignée laser excimer la spectroscopie de photoélectrons X angle de contact
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