U2O5 фильм подготовка через UO2 осаждения путем распыления постоянного тока и последовательных окисления и сокращения с атомарного кислорода и атомарного водорода
Этот протокол свидетельствует подготовка U2O5 тонких пленок полученные в situ под ультра-высокого вакуума. Этот процесс включает окисления и сокращение UO2 фильмов с атомарного кислорода и атомарный водород, соответственно.