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Grande área varredura sonda Nanolitografia facilitada pelo alinhamento automatizado e sua aplicação para fabricação de substrato para estudos de cultura celular
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JoVE Journal Bioengenharia
Large-area Scanning Probe Nanolithography Facilitated by Automated Alignment and Its Application to Substrate Fabrication for Cell Culture Studies

Grande área varredura sonda Nanolitografia facilitada pelo alinhamento automatizado e sua aplicação para fabricação de substrato para estudos de cultura celular

DOI:
10.3791/56967-v

•

09:45 min

•

June 12, 2018

•

, , , , , ,
1Manchester Institute of Biotechnology & School of Chemistry,University of Manchester, 2School of Engineering,University of Liverpool, 3School of Electrical and Electronic Engineering,University of Manchester, 4School of Science and Technology,Nottingham Trent University

Capítulos

  • 00:04Título
  • 00:47Polymer Pen Lithography (PPL) Array Fabrication and Substrate Mounting
  • 04:29Automatic Pen Array Alignment
  • 06:35Polymer Pen Lithography
  • 08:20Results: Substrate Patterning by PPL
  • 09:08Conclusion

Summary

Tadução automática

Tadução automática

Aqui nós apresentamos um protocolo para área ampla varredura sonda Nanolitografia habilitado pelo alinhamento iterativo de matrizes de sonda, bem como a utilização de padrões de litografia para estudos de interação da pilha-superfície.

Tags

Keywords: Large-area Scanning Probe NanolithographyAutomated AlignmentSubstrate FabricationCell Culture StudiesPDMS PrepolymerSilicon MasterPPL ArrayOxygen Plasma TreatmentAFM Lithography

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