ऑप्टिकली पारदर्शी ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड इलेक्ट्रोड पर patterning कक्ष
Summary
गैर – दूषण खूंटी silane monolayer कांच पर व्यक्तिगत पता इतो इलेक्ट्रोड से एक reductive क्षमता के आवेदन के द्वारा desorbed किया गया था. विद्युत इतो कोशिका आसंजन के लिए अनुमति दी एक spatially परिभाषित फैशन में जगह ले microelectrodes से खूंटी silane परत के सेलुलर इलेक्ट्रोड पैटर्न को बारीकी से इसी पैटर्न के साथ, विपठ्ठन.
Abstract
बातचीत सेल सतह पर सटीक स्थानिक और लौकिक नियंत्रण व्यायाम करने की क्षमता बहु सेलुलर देशी ऊतकों की इन विट्रो mimics में के रूप में सेवारत constructs की विधानसभा के लिए एक महत्वपूर्ण शर्त है. इस अध्ययन में, photolithography और गीला नक़्क़ाशी तकनीक बनाना ग्लास substrates पर व्यक्तिगत पता ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड (आईटीओ) इलेक्ट्रोड प्रयोग किया गया. कांच इतो microelectrodes युक्त substrates पाली (ethylene glycol) (खूंटी) उन्हें प्रोटीन और सेल प्रतिरोधक बनाने silane के साथ संशोधित किया गया है. इलेक्ट्रोड सतह पर खूंटी अणुओं इन्सुलेट की उपस्थिति चक्रीय एक redox संवाददाता अणु के रूप में पोटेशियम ferricyanide रोजगार voltammetry द्वारा सत्यापित किया गया था. महत्वपूर्ण बात, reductive क्षमता के आवेदन खूंटी परत के कारण desorption, प्रवाहकीय इलेक्ट्रोड और ठेठ ferricyanide redox चोटियों की सतह उपस्थिति के उत्थान में जिसके परिणामस्वरूप. Reductive क्षमता के आवेदन से आईटीओ इलेक्ट्रोड गुणों के स्विचन corresponded के सेल सेल चिपकने वाला गैर चिपकने वाला है. विद्युत इतो कोशिका आसंजन के लिए अनुमति दी एक spatially परिभाषित फैशन में जगह ले microelectrodes से खूंटी silane परत के सेलुलर इलेक्ट्रोड पैटर्न को बारीकी से इसी पैटर्न के साथ, विपठ्ठन. कई प्रकार की कोशिकाओं के micropatterning इन substrates पर प्रदर्शन किया गया. भविष्य में, biointerfacial इस विधि द्वारा afforded गुणों का नियंत्रण करने के लिए तीन या अधिक प्रकार की कोशिकाओं के विधानसभा के माध्यम से एक ऑप्टिकली पारदर्शी सब्सट्रेट पर एक सटीक ज्यामितीय विन्यास में सेलुलर microenvironments इंजीनियर की अनुमति देगा.
Protocol
Discussion
इस वीडियो में, हम ऑप्टिकली पारदर्शी ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड इलेक्ट्रोड पर सेल patterning प्रदर्शन किया है. इतो photolithography का उपयोग कर इलेक्ट्रोड fabricating करने के बाद, वे सेल प्रतिरोधक silane खूंटी की एक monolayer के साथ संशोधित किया गया ह?…
Materials
| Material Name | Type | Company | Catalogue Number | Comment |
|---|---|---|---|---|
| Indium Tin Oxide | Other | Delta Technologies | CB 40IN | |
| PEG silane | Reagent | Gelest Inc. | SIM6492.66 | |
| Hydrochloric Acid | Reagent | Sigma-Aldrich | 320331 | |
| Nitric Acid | Reagent | Sigma Aldrich | 258121 | |
| Ethanol | Reagent | Sigma-Aldrich | 459836 | |
| Acetone | Reagent | Sigma-Aldrich | 650501 | |
| Toluene | Reagent | Sigma-Aldrich | 34866 | |
| Media | Reagent | Invitrogen Technologies | ||
| Collagen | Reagent | Sigma-Aldrich | C3867 | |
| 3T3 murine Fibroblasts | Cell Line | ATCC |
References
- Lee, J. Y., Jones, C., Zern, M. A., Revzin, A. Analysis of Local Tissue-Specific Gene Expression in Cellular Micropatterns. Analytical Chemistry. 78, 8305-8312 (2006).
