Beskrivs här är en nanosfär litografi metod för parallell tillverkning av nollläge vågledare, som är matriser av nanoapertures i en metallklädd glasmikroskopi coverlip för en molekyl imaging vid nano- till mikromolar koncentrationer av fluororforer. Metoden drar nytta av kolloidal crystal självmontering för att skapa en vågguidemall.