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在光刻技术定义的聚对二甲苯-C细胞图案:二氧化硅<sub> 2</sub>基板
JoVE Journal
Biotechnik
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JoVE Journal Biotechnik
Cell Patterning on Photolithographically Defined Parylene-C: SiO2 Substrates
DOI:

07:19 min

March 07, 2014

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Kapitel

  • 00:05Titel
  • 01:17Fabrication of Parylene Patterns on SiO2
  • 03:31Chip Cleaning and Activation
  • 04:26Plating Cell Line On-chip
  • 05:12Results: Cell Patterning on Photolithographically-defined Parylene-C
  • 06:49Conclusion

Summary

Automatische Übersetzung

本协议描述了一个微加工兼容的方法在SiO 2细胞图案。预定义聚对二甲苯-C设计光刻印刷在SiO 2晶片。温育后用血清(或其它活化溶液)细胞粘附具体地(和根据的符合性生长)相关的聚对二甲苯-C,而被排斥由SiO 2区。

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