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Musterbildung auf Photolithographische Definierte Parylene-C: SiO<sub> 2</sub> Substrate
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1Centre for Integrative Physiology, School of Biomedical Sciences,The University of Edinburgh, 2Edinburgh Cancer Research Centre, Institute of Genetics and Molecular Medicine,Western General Hospital, 3School of Engineering, Institute for Integrated Micro and Nano Systems,The University of Edinburgh
Kapitel
- 00:05Titel
- 01:17Fabrication of Parylene Patterns on SiO2
- 03:31Chip Cleaning and Activation
- 04:26Plating Cell Line On-chip
- 05:12Results: Cell Patterning on Photolithographically-defined Parylene-C
- 06:49Conclusion
Dieses Protokoll beschreibt eine Mikro-kompatible Methode zur Zellstrukturierung auf SiO 2. Eine vordefinierte Parylene-C Design ist fotolithographisch auf SiO 2-Wafer gedruckt. Nach der Inkubation mit Serum (oder andere Aktivierungslösung) Zellen anhaften speziell auf (und wachsen nach der Konformität) zugrunde liegenden Parylene-C, und dabei von SiO 2-Regionen zurückgeschlagen.
Tags
Cell PatterningParylene-CSiO2 SubstratesPhotolithographyMulti-electrode ArraysLab On A ChipCell AdhesionCell-specific Adhesion MoleculesPrimary Murine Hippocampal CellsHEK 293 Cell LineHuman Neuron-like Teratocarcinoma Cell LinePrimary Murine Cerebellar Granule CellsPrimary Human Glioma-derived Stem-like Cells
