/
/
Functionalization حجرية ناعمة وخالية من الزخرفة أوكسيد السيليكون والجرمانيوم
This content is Free Access.
Chapitres
- 00:05Titre
- 03:25Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Silicon
- 05:07Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Germanium
- 05:50NHS Substrate
- 06:26Preparing and Using the Acidic Polyurethane Acrylate (PUA) Stamp
- 08:13Protein Pattern
- 09:21Catalytic Nano-patterning and Functionalization
- 11:02Conclusion
نحن هنا وصف طريقة بسيطة لfunctionalization الزخرفة السيليكون والجرمانيوم مع monolayers التفاعل العضوي والتظاهر أكسيد خالية من ركائز منقوشة مع الجزيئات الصغيرة والبروتينات. نهج يحمي الأسطح تماما من أكسدة المواد الكيميائية ، ويوفر دقة السيطرة على التشكل الميزة ، ويوفر سهولة الوصول إلى أنماط التمييز كيميائيا.
Tags
Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
