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La fonctionnalisation douce lithographiques et les motifs sans oxyde silicium et de germanium
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Chapitres
- 00:05Titre
- 03:25Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Silicon
- 05:07Forming a Primary Methyl-terminated Monolayer on Germanium
- 05:50NHS Substrate
- 06:26Preparing and Using the Acidic Polyurethane Acrylate (PUA) Stamp
- 08:13Protein Pattern
- 09:21Catalytic Nano-patterning and Functionalization
- 11:02Conclusion
Nous décrivons ici une méthode simple pour la modélisation sans oxyde de silicium et de germanium fonctionnalisation avec des monocouches organiques réactifs et de démontrer des substrats à motifs avec des petites molécules et des protéines. L'approche protège complètement les surfaces de l'oxydation chimique, fournit un contrôle précis de la morphologie caractéristique, et fournit un accès facile à des modèles chimiquement discriminés.
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Soft Lithographic FunctionalizationPatterningOxide-free SiliconGermaniumHybrid Electronic Devices(bio)organic MaterialsInorganic SemiconductorsStable InterfaceElectron TransportOxidative DegradationSelf-assembled MonolayersAlkyl ChainsImpervious BarriersTraditional Patterning TechniquesImmobilizing Organic Molecular SystemsOptical FunctionElectronic FunctionMechanical FunctionChemical ActivityBiological ActivityMicrocontact PrintingNoble Metal SurfacesPattern TransferOxide-free Silicon And Germanium SubstratesInk DiffusionResolution Limit
