Photolithography द्वारा polymeric Microneedle एरे मनगढ़ंत
Summary
Here, we present a protocol describing a mold-free fabrication process of the polymeric microneedles by photolithography.
Abstract
यह पांडुलिपि फोटोलिथोग्राफी द्वारा polymeric Microneedle (MN) में सरणियों के निर्माण का वर्णन। यह एम्बेडेड माइक्रो लेंस से मिलकर एक photomask का उपयोग करके एक साधारण आचारण से मुक्त प्रक्रिया शामिल है। एम्बेडेड माइक्रो लेंस एम.एन. ज्यामिति (तीखेपन) को प्रभावित पाए गए। गढ़े गए थे दो अलग अलग लंबाई (1336 माइक्रोन ± 193 माइक्रोन और माइक्रोन ± 171 माइक्रोन 957) के साथ, माइक्रोन 13.7 ± माइक्रोन माइक्रोन 8.4 ± माइक्रोन 41.5 के बीच और 71.6 लेकर टिप व्यास के साथ मजबूत एम.एन. सरणियों। ये एम.एन. सरणियों त्वचा के माध्यम से कम आणविक और macromolecular चिकित्सीय एजेंटों के वितरण में संभावित अनुप्रयोगों प्रदान कर सकता है।
Introduction
Transdermal दवा वितरण विशेष रूप से लगभग विशेष रूप से चमड़े के नीचे इंजेक्शन द्वारा प्रशासित रहे हैं जो biomolecules, के लिए, दवा प्रशासन के लिए एक आकर्षक विकल्प दृष्टिकोण प्रदान करता है। हालांकि, त्वचा, विशेष रूप से शीर्ष परत (परत corneum), मानव शरीर में प्रवेश करने से बहिर्जात अणुओं को रोकने के लिए एक दुर्जेय बाधा नहीं है। हाल ही में, एम.एन. उपकरणों त्वचा के माध्यम से दवाओं देने के लिए उपकरणों को सक्षम करने के रूप में उभरा है। एम.एन. उपकरणों दवा अणुओं के पारित होने में सुधार रोगी अनुपालन और सुविधा 1-3 के साथ वांछित शारीरिक गतिविधि को प्राप्त करने के लिए अनुमति देने के लिए परत corneum अंदर अस्थायी pores बनाने।
विभिन्न निर्माण विधियों polymeric मनसे 4 निर्माण करने के लिए अपनाया गया है। हालांकि, वे आमतौर पर मनसे सरणियों निर्माण करने के लिए लंबे समय और / या उच्च तापमान की आवश्यकता होती है जटिल है और कई कदम प्रक्रियाओं को शामिल करना। 4, एक भी कदम ढालना मुक्त प्रक्रिया का उपयोग कर निर्माण की प्रक्रिया को आसान बनाने के लिएएक photomask हाल ही में 5,6 विकसित किया गया था। हालांकि, इस विधि के साथ, कोई तंत्र फोटोलिथोग्राफी में शामिल पराबैंगनी (यूवी) प्रकाश पथ को संशोधित करने के लिए जगह में था के रूप में मनसे, कुंद सुई सुझाव था गढ़े।
इस अध्ययन में, photomask में एम्बेडेड microlenses मनसे की ज्यामिति को परिभाषित करने के लिए प्रस्तावित किया गया है। प्रोटोकॉल photomasks एम्बेडेड microlenses से मिलकर और बाद में photomask का उपयोग कर तेज युक्तियों रिपोर्ट कर रहे हैं के साथ निर्माण mn बनाना।
Protocol
Representative Results
Discussion
मनसे सरणी के निर्माण के लिए ऊपर वर्णित प्रोटोकॉल ~ 1 2 सेमी की मनसे सरणी के निर्माण के लिए प्रस्तुत किया गया है। सरणियों एक बड़े आकार गुहा बनाने के द्वारा और एक बड़ा photomask का उपयोग करके बढ़ाया जा सकता है?…
Disclosures
The authors have nothing to disclose.
Acknowledgements
This study was supported by a Singapore National Research Foundation (NRF) Grant NRF2012NRF-POC001-043.
Materials
| Poly(ethylene glycol) diacrylate (PEGDA Mn=258) | SIGMA | 475629-500ML | |
| 2-hydroxy-2-methyl-propiophenone (HMP) | SIGMA | 405655-50ML | |
| Bovine collagen type 1, FITC conjugate | SIGMA | C4361 | |
| UV curing station | EXFO Photonic Solutions Inc., Canada | OmniCure S200-XL | |
| Collimating Adaptor | EXFO Photonic Solutions Inc., Canada | EXFO 810-00042 | |
| 24-well plate | Thermo Fisher Scientific, USA | ||
| Nikon SMZ 1500 stereomicroscope | Nikon, Japan | ||
| Dillon GL-500 digital force gauge | Dillon, USA | ||
| A-1R confocal microscope | Nikon, Japan | ||
References
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