Journal
/
/
Atomische laag depositie van Vanadium kooldioxide en een temperatuur-afhankelijke optische Model
JoVE Journal
Engineering
This content is Free Access.
JoVE Journal Engineering
Atomic Layer Deposition of Vanadium Dioxide and a Temperature-dependent Optical Model
DOI:

11:10 min

May 23, 2018

, ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
  • 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
  • 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
  • 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
  • 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
  • 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
  • 10:49Conclusion

Summary

Automatic Translation

Dunne lagen (100-1000 Å) van vanadium kooldioxide (VO2) werden gemaakt door atomische laag depositie (ALD) op saffier substraten. Na dit, de optische eigenschappen werden gekenmerkt door de metaal-isolator overgang van VO2. Van de gemeten optische eigenschappen, is een model gemaakt om te beschrijven de afstembare brekingsindex van VO2.

Related Videos

Read Article