/
/
Atomic lag deponering av Vanadium karbondioksid og temperaturen-avhengige optisk modell
This content is Free Access.
Chapters
- 00:04Title
- 00:56Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates
- 03:06Annealing Amorphous VO2 Thin Films
- 04:45Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy
- 05:43Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
- 07:31Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)
- 09:06Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films
- 10:49Conclusion
Tynne filmer (100-1000 Å) av vanadium (VO2) ble opprettet av Atom-lags avsetning (ALD) på safir underlag. Denne optiske egenskapene ble preget gjennom metall-isolator overgangen VO2. Den målte optiske egenskapene, ble en modell opprettet for å beskrive den tunable brytningsindeksen VO2.
