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Démonstration de la génération de faisceaus à intensité égale par Dielectric Metasurfaces
 
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Démonstration de la génération de faisceaus à intensité égale par Dielectric Metasurfaces

Article DOI: 10.3791/59066-v • 09:33 min • June 7th, 2019
June 7th, 2019 •
1, 1, 1,2,3
1Department of Mechanical Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 2Department of Chemical Engineering, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 3National Institute of Nanomaterials Technology (NINT)

Capítulos

Resumo
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Un protocole pour la fabrication et la caractérisation optique des métasurfaces diélectriques est présenté. Cette méthode peut être appliquée à la fabrication non seulement de séparateurs de faisceau, mais aussi de métasurfaces diélectriques générales, telles que des lentilles, des hologrammes et des manteaux optiques.

Tags

Ingénierie Numéro 148 fendeur de faisceau hologramme de Fourier silicium amorphe hydrogéné lithographie de faisceau d'électrons gravure réactive inductive d'ion réactive de plasma dépôt de vapeur chimique plasma-amélioré haut débit indépendance de polarisation
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