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Fabricating Nanogaps by Nanoskiving
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Realizzazione nanogap da Nanoskiving

DOI:
10.3791/50406-v

•

07:36 min

•

May 13, 2013

•

,
1Stratingh Institute for Chemistry and Zernike Institute for Advanced Materials,University of Groningen

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:13Preparation of a Block for Sectioning: Self-assembled Monolayers
  • 04:12Sectioning to Produce Nanogap Structures
  • 05:35Preparation for Electrical Measurements of Self-assembled Monolayer Samples
  • 06:00Results: Images and Electrical Measurements for Nanogaps below 5 nm
  • 07:15Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

La fabbricazione di elettricamente indirizzabili,-aspect-ratio elevato (> 1000:1) nanofili metallici separati da spazi vuoti delle singole nanometri utilizzando sia strati sacrificali di alluminio e argento o monostrati auto-assemblati come modelli è descritta. Queste strutture nanogap sono fabbricati senza una camera pulita o una foto-o fasci elettronici litografiche processi da una forma di spigolo litografia conosciuta come nanoskiving.

Tags

Keywords: NanogapsNanoskivingEdge LithographyNanofabricationSacrificial LayerSelf-assembled MonolayersElectrically AddressableDimensional ControlMechanical Fabrication

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