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कार्यात्मक सतह-Multistep कतरा विस्थापन लिथोग्राफी का उपयोग कर जीन के स्थिरीकरण
JoVE Journal
Bioengineering
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JoVE Journal Bioengineering
Functional Surface-immobilization of Genes Using Multistep Strand Displacement Lithography
DOI:

11:05 min

October 25, 2018

, , ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:57Chip Fabrication
  • 02:43Substrate Preparation for Photolithography
  • 04:11Projection Lithography
  • 05:40Holder Assembly for Compartmentalized Gene Expression
  • 07:17Setup for Gene Expression Analysis
  • 09:23Results: Bephore Lithography and Compartmentalized Gene Expression
  • 10:29Conclusion

Summary

Automatic Translation

हम एक सतह पर जीन लंबाई डीएनए अणुओं के स्थिरीकरण के लिए एक सरल lithographic प्रक्रिया का वर्णन है, जो सेल से मुक्त जीन अभिव्यक्ति प्रयोगों पर प्रदर्शन किया जा सकता है ।

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