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다단계 가닥 변위 리소 그래피를 사용 하 여 유전자의 기능 표면-동원 정지

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Bioengineering

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JoVE Journal Bioengineering

Functional Surface-immobilization of Genes Using Multistep Strand Displacement Lithography

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다단계 가닥 변위 리소 그래피를 사용 하 여 유전자의 기능 표면-동원 정지

DOI:

10.3791/58634-v

•

11:05 min

•

October 25, 2018

•

Günther Pardatscher*¹, Matthaeus Schwarz-Schilling*¹, Sandra Sagredo, Friedrich C. Simmel

¹Physics Department,Technical University of Munich

Chapters

00:04Title
00:57Chip Fabrication
02:43Substrate Preparation for Photolithography
04:11Projection Lithography
05:40Holder Assembly for Compartmentalized Gene Expression
07:17Setup for Gene Expression Analysis
09:23Results: Bephore Lithography and Compartmentalized Gene Expression
10:29Conclusion

Summary

Automatic Translation

우리는 봄에는에 셀 무료 유전자 식 실험을 수행 하기 위해 사용 될 수 있는 표면에 유전자 길이 DNA 분자의 동원 정지에 대 한 간단한 석판 절차를 설명 합니다.

Tags

Keywords: DNA Biochips Self Re-synthetic Biology Bephore Lithography DNA Strand Displacement Multistep Lithography PEGylation Biotin-PEG-Silane Silicon Wafer Cleaning Substrate Preparation Gene Immobilization Functional Gene Brushes Protein Expression

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