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유전체 메타표면에 의한 동등한 강도 빔 생성 시연

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Demonstration of Equal-Intensity Beam Generation by Dielectric Metasurfaces

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유전체 메타표면에 의한 동등한 강도 빔 생성 시연

DOI:

10.3791/59066-v

•

09:33 min

•

June 07, 2019

•

Gwanho Yoon, Dasol Lee, Junsuk Rho^2,3

¹Department of Mechanical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), ²Department of Chemical Engineering,Pohang University of Science and Technology (POSTECH), ³National Institute of Nanomaterials Technology (NINT)

Chapters

00:04Title
00:52Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)
01:35Formation of the Chromium Etching Mask
06:53Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon
07:41Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent
08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

유전체 메타표면의 제조 및 광학 특성화를 위한 프로토콜이 제시된다. 이 방법은 빔 스플리터뿐만 아니라 렌즈, 홀로그램 및 광학 망토와 같은 일반적인 유전체 메타 표면의 제작에도 적용 될 수 있습니다.

Tags

Metasurface Fabrication Dielectric Metasurface Equal-intensity Beam Generation PECVD PMMA Electron Beam Lithography Silicon Photonics

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