Waiting
로그인 처리 중...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
Journal / Engineering / Рендеринг SiO2/Si Поверхности Omniphobic путем…
JoVE Journal
Engineering

이 콘텐츠 오픈 액세스로 구독없이 시청하실 수 있습니다.

JoVE Journal Engineering
Рендеринг SiO2/Si Поверхности Omniphobic путем резьбы газо-захват микротекстуры состоит из Reentrant и вдвойне Reentrant полости или столбы
 
Click here for the English version

Рендеринг SiO2/Si Поверхности Omniphobic путем резьбы газо-захват микротекстуры состоит из Reentrant и вдвойне Reentrant полости или столбы

Article DOI: 10.3791/60403-v • 08:02 min • February 11th, 2020
February 11th, 2020 •
1, 1, 1, 1, 2, 2, 1
1Water Desalination and Reuse Center (WDRC), Biological and Environmental Science and Engineering (BESE) Division, King Abdullah University of Science and Technology (KAUST), 2Core Labs, King Abdullah University of Science and Technology (KAUST)

챕터

요약
Automatic Translation

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Эта работа представляет протоколы микрофабрикации для достижения полостей и столбов с реантентировать и вдвойне reentrant профилей на SiO2/ Si пластин с использованием фотолитографии и сухой травления. В результате микротекстурированные поверхности демонстрируют замечательную жидкое отталкивание, характеризующееся надежным длительным захватом воздуха под смачивающие жидкости, несмотря на внутреннюю влажность кремнезема.

Tags

Инженерия Выпуск 156 смачивание всеядность реантентирующие и вдвойне реантирующие полости/столбы газовые микротекстуры (ГЭМ) фотолитография изотропное травление анизотропное травление рост термического оксида реактивно-ионное травление контактные углы погружение конфокальная микроскопия
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter