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Fokussierte Ionenstrahl-Lithographie zu Etch-Nano-Architekturen in Mikroelektroden
 
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Fokussierte Ionenstrahl-Lithographie zu Etch-Nano-Architekturen in Mikroelektroden

Article DOI: 10.3791/60004-v • 13:49 min • January 19th, 2020
January 19th, 2020 •
1, 2,4, 5, 6, 2,3,4
1Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine, University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering, University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization, University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.

Chapitres

résumé
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Wir haben gezeigt, dass die Radierung der Nanoarchitektur in intracortische Mikroelektrodengeräte die Entzündungsreaktion reduzieren kann und das Potenzial hat, elektrophysiologische Aufnahmen zu verbessern. Die hier beschriebenen Methoden skizzieren einen Ansatz, Nano-Architekturen in die Oberfläche nicht-funktioneller und funktioneller Einschaftssilizium-Intracortical-Mikroelektroden zu ätzen.

Tags

Bioengineering Ausgabe 155 fokussierte Ionenstrahllithographie intracortische Mikroelektroden Nanoarchitektur Elektrophysiologie Neuroinflammation Biokompatibilität
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